Interferometro a luce bianca per il posizionamento delle maschere in litografia

Nel processo di litografia, la misurazione stabile ad alta risoluzione e a lungo termine dei movimenti della macchina è necessaria per ottenere la massima precisione. Grazie ad algoritmi di valutazione speciali e alla compensazione attiva della temperatura, l’interferometro a luce bianca IMS5400 della Micro-Epsilon permette un posizionamento con precisione nanometrica delle maschere. Sensori, cavi e canaline idonei per il vuoto permettono un utilizzo in ambienti sotto vuoto.