Misurazione ad alta precisione dello spessore dei wafer di silicio

Per la misurazione esatta dello spessore dei wafer vengono utilizzati sensori di spostamento capacitivi. Due sensori opposti registrano lo spessore e determinano anche altri parametri come la deflessione. La posizione del wafer nella fessura di misurazione può variare senza influenzare la precisione di misurazione.

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